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EDC-650顯影機的正常運作離不開正確的保養措施，這樣才能保證我們的產品正常長久有效的生產。下面帶大家來學習下該如何保養。1常清潔并在需要的情況下進行更換(其壓力應該定期加以檢查)。如果需要，用水和新鮮的顯影液清洗輥子。2、根據制造商的建議經常檢查和更換過濾器。“過濾器都是一樣的"是一個錯誤的概念，對于每臺機器都應該使用推薦的過濾器。根據制造商的建議進行潤滑。根據制造商的建議保持顯影機內顯影液、干燥器的溫度和作用力；使用溫度計確定溫度。顯影機的速度必須與所用的印版和顯影液相...

WS1000濕法刻蝕機的應用非常廣泛，下面來看下它應用在哪些方面：WS1000濕法刻蝕機應用領域1、半導體元件、印刷線路板的清洗。2、高分子材料表面修飾3、生物芯片、微流控芯片的清洗4、芯片、電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片等的清洗5、各種形狀的人工晶體、ATR元件、天然晶體和寶石的清洗。6、光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片的清洗。7、各種陶瓷、金屬基片上的殘留凝膠等雜質的清洗。8、各種醫療器材和儀器的清洗。9、增加復合材料、生物分子材料表面的結合力。

使用德國Diener等離子清洗機時需要注意以下事情：1、儀器的功率參數設定不要超過60（即儀器額定功率的60%）2、樣品處理時間不要過長（不要超過10分鐘）如果感覺處理的效果不是很理想可以停機后，過5分鐘（待儀器的熱量散掉后）在進行一次處理。3、在日常的使用過程中一定要做到打開電源后，*行回氣操作使倉體恢復常壓（按下Air/Vent按鈕，并在3—5秒后復原Air/Vent按鈕）后再開始實驗。目的是防止真空泵油逆流。4、實驗中處理的樣品不要與儀器的艙內高壓板接觸5、對于本機而言...

目前，MicroChem光刻膠應用很廣泛，給使用者節約了不少時間，也提高了工作效率;但是在使用中要注意哪些呢？MicroChem光刻膠使用注意事項：①若腐蝕液為堿性，則不宜用正性光刻膠②看光刻機型式,若是投影方式,用常規負膠時氮氣環境可能會有些問題③負性膠價格成本低，正性膠較貴④工藝方面：負性膠能很好地獲得單根線，而正性膠可獲得孤立的洞和槽⑤健康方面：負性膠為有機溶液處理，不利于環境；正性膠屬于水溶液，對健康、環境無害以上關于MicroChem光刻膠的保養與使用注意事項就為大...

對于TDake壓片機來說，清潔不僅能夠使其保持精度，還能夠延長其使用壽命，所以使用Dake壓片機的時候要定期對其進行清潔處理。Dake壓片機在使用一段時間后，需要進行各個部件的清洗工作，下面就簡單的敘述一下清洗步驟：1、零部件清洗①不銹鋼等金屬件用水清洗干凈后，擦干，放放蒸發器干燥；②非金屬件清洗干凈后自然晾干；2、日常清洗①日常清洗只需將主機內的粉塵、顆粒清理干凈即可，加料機械和模具都不需要拆下。②若生產的物料吸潮，或是物料本身粘度較大，或是物料有氧化性、腐蝕性等化學性質，...

3850壓實密度儀采用壓力表控制壓力方式，可以依據不同測試粉末特性配置不同測試壓力范圍，本機結構設計合理，使用操作方便，下面來為消費者來介紹下該怎么選？1、標準：在3850壓實密度儀行業生產廠家生產的振實密度儀要符合標準/國內標準/行業標準N多項。我們在選擇振實密度儀的時候應選擇符合標準zui多的廠家的產品使用，這代表該廠家對產品的技術/質量要求把關嚴格。2、：在3850壓實密度儀行業要有突破說實話很難，這時候有新型振實密度儀的廠家就更少了，有代表公司有新生命注入，有實力研發...

任何機器和設備在我們使用的時候其實都是有一些問題需要我們來注意的，那么在我們使用NXQ8000系列掩膜曝光機的時候需要注意哪些問題呢，現在讓我們大家一起來看看，到底有哪些問題是我們在使用這種機器的時候需要注意的呢？NXQ8000系列掩膜曝光機注意事項1)操作人員必須接受崗前培訓并經考核合格后方可上崗，并應嚴格遵守本操作規程。2)除了必需的維護人員外，嚴禁非本崗位人員操作設備或改變設置參數。3)輥速比建議設定在1.3～1.5范圍內。4)必須確認干燥風機已經啟動后才能啟動空氣加熱...